74. Trends in industrial R&D performance, by source of funds: 1953-91 and estimates for 1992-93 [Electronic resource] // Сайт The National Science Foundation. – The National Science Foundation, [2010]. – Режимдоступа: http://www.nsf.gov/statistics/s2491/s2491001.xls. – Загл. сэкрана. (25.03.2010).
75. U.S. Business R&D Expenditures Increase in 2007; Small Companies Performed 19% of Nation's Business R&D [Electronic resource] // Сайт The National Science Foundation. – The National Science Foundation, [2010]. – Режим доступа: http://www.nsf.gov/statistics/infbrief/nsf09316/.– Загл. с экрана. (25.03.2010).
76. U.S. Industrial R&D Expenditures and R&D-to-Sales Ratio Reach Historical Highs in 2000 [Electronic resource] // Сайт The National Science Foundation. – The National Science Foundation, [2010]. – Режим доступа: http://www.nsf.gov/statistics/infbrief/nsf03306/.– Загл. с экрана. (25.03.2010).
77. WebCASPAR: Integrated science and engineering resources data system [Electronic resource]. – 2010 - . – Режимдоступа: http://webcaspar.nsf.gov/, свободный. – Загл. сэкрана. (20.03.2010).
Расходы на НИОКР в США[86]
Расходы государства на НИОКР в США (миллионы долларов США) | ||
Год | 1988 | 2007 |
Общие расходы на НИОКР | 94214 | 202544 |
Расходы государства на НИОКР | 30911 | 22118 |
Расходы государства на НИОКР в процентах к общим расходам | 32,81% | 10,92% |
Средства, затраченные компаниями на НИОКР в США в зависимости от размера компании в ценах 2000 года (миллионы долларов США)
Год Размер компании | 1981 | 1981 | 2000 | 2000 | 2007 | 2007 |
до 1000 | 2305 | 4% | 44 702 | 22% | 53 990 | 24% |
1,000–4,999 | 3148 | 6% | 30636 | 15% | 34305 | 15% |
5,000–9,999 | 2988 | 6% | 16768 | 8% | 18923 | 8% |
10,000–24,999 | 6762 | 13% | 28653 | 14% | 38347 | 17% |
25,000 и более | 36607 | 71% | 78779 | 39% | 79161 | 35% |
Итого: | 51810 | 100% | 199539 | 100% | 224732 | 100% |
Средства, затраченные компаниями на НИОКР в США в 2000 и 2007 годах в зависимости от размера компании в ценах 2000 года (подробно)
Год | 2000 | 2000 | 2007 | 2007 |
Всего потрачено на НИОКР в США | 199 539 | 100% | 224 732 | 100% |
Размер компании (количество сотрудников) | Средства, выделенные компаниями (млн. $) | |||
5–24 | 6 862 | 3% | 9 059 | 4% |
25–49 | 5 008 | 3% | 6 577 | 3% |
50–99 | 7 259 | 4% | 8 403 | 4% |
100–249 | 9 020 | 5% | 11 145 | 5% |
250–499 | 7 479 | 4% | 6 889 | 3% |
500–999 | 9 074 | 5% | 11 917 | 5% |
1,000–4,999 | 30 636 | 15% | 34 305 | 15% |
5,000–9,999 | 16 768 | 8% | 18 923 | 8% |
10,000–24,999 | 28 653 | 14% | 38 347 | 17% |
25,000 и более | 78 779 | 39% | 79 161 | 35% |
Статистика получения патентов[87]
Число выданных в США патентов
год | 1995 | 1996 | 1997 | 1998 | 1999 | 2000 | 2001 | 2002 | 2003 | 2004 | 2005 | 2006 | 2007 | 2008 |
число патентов | 101 419 | 109645 | 111000 | 147517 | 153485 | 157494 | 166035 | 167331 | 169023 | 164290 | 143806 | 173772 | 157282 | 157772 |
Получатели патентов[88]Количество патентов, выданных в США. | ||
Год | 99 | 2008 |
Всего, шт. | 153489 | 157772 |
Количество патентов, выданных получателям из США, шт. | 83908 (55%) | 77501 (49%) |
Количество патентов, выданных получателям из других стран, шт. | 69581 (45%) | 80271 (51%) |
20 компаний - ведущих получателей патентов в 2008 году. | ||
INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION | 4169 | 2,64% |
SAMSUNG ELECTRONICS CO., LTD. | 3502 | 2,22% |
CANON KABUSHIKI KAISHA | 2 107 | 1,34% |
MICROSOFT CORPORATION | 2 026 | 1,28% |
INTEL CORPORATION | 1772 | 1,12% |
TOSHIBA CORPORATION | 1575 | 1,00% |
FUJITSU LIMITED | 1 475 | 0,93% |
MATSUSHITA ELECTRIC INDUSTRIAL CO., LTD. | 1 469 | 0,93% |
SONY CORPORATION | 1461 | 0,93% |
HEWLETT-PACKARD DEVELOPMENT COMPANY, L.P. | 1422 | 0,90% |
HITACHI, LTD | 1 301 | 0,82% |
MICRON TECHNOLOGY, INC. | 1 250 | 0,79% |
SEIKO EPSON CORPORATION | 1219 | 0,77% |
GENERAL ELECTRIC COMPANY | 911 | 0,58% |
Fujifilm Corporation | 863 | 0,55% |
RICOH COMPANY, LTD. | 851 | 0,54% |
INFINEON TECHNOLOGIES AG | 809 | 0,51% |
LG ELECTRONICS INC. | 805 | 0,51% |
TEXAS INSTRUMENTS, INCORPORATED | 755 | 0,48% |
SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT | 721 | 0,46% |
Итого: | 30463 | 19,31% |
Распространение высшего образования в США[89]
Год | 1972 | 1973 | 1974 | 1975 | 1976 | 1977 | 1978 | 1979 | 1980 | 1981 | 1982 | 1983 | 1984 | 1985 | 1986 | 1987 | 1988 | 1989 |
Число выпускников бакалавриата, тыс. человек | 208 | 214 | 260 | 328 | 333 | 345 | 339 | 357 | 367 | 375 | 382 | 390 | 394 | 404 | 415 | 421 | 424 | 434 |
Число получивших степень доктора, тыс. человек | 33 | 33 | 33 | 32 | 32 | 31 | 30 | 31 | 31 | 31 | 31 | 31 | 31 | 31 | 31 | 32 | 33 | 34 |
Год | 1990 | 1991 | 1992 | 1993 | 1994 | 1995 | 1996 | 1997 | 1998 | 1999 | 2000 | 2001 | 2002 | 2003 | 2004 | 2005 | 2006 | 2007 |
Число выпускников бакалавриата, тыс. человек | 452 | 471 | 493 | 504 | 504 | 499 | 494 | 487 | 485 6 | 493 | 493 3 | 509 | 540 4 | 567 | 574 | 582 | 597 | 619 |
Число получивших степень доктора, тыс. человек | 36 | 37 | 38 | 39 | 41 | 41 | 42 | 42 | 42 | 41 | 41 | 40 | 40 | 40 | 42 | 43 | 45 | - |
Количество выпускников бакалавриата и количество получивших степень доктора по направлению «Естественные и прикладные науки» в США
Удельный вес организаций, осуществляющих исследования и разработки, в общем числе организаций, осуществляющих технологические инновации
Добывающие, обрабатывающие производства, производство и распределение электроэнергии, газа и воды (в процентах)
Источник: URL: http://www.gks.ru/doc_2009/nauka/ind_innov2009.pdf
Связь, деятельность, связанная с использованием вычислительной техники и информационных технологий (в процентах)
Источник: URL: http://www.gks.ru/doc_2009/nauka/ind_innov2009.pdf
Удельный вес организаций, осуществляющих технологические инновации, в общем числе организаций (данные по организациям добывающих, обрабатывающих производств, производства и распределения электроэнергии, газа и воды и сферы услуг в процентах, 2007 год)
Источник: URL: http://www.gks.ru/doc_2009/nauka/ind_innov2009.pdf
Структураиндекса привлекательности для венчурного капитала и схема весов показателей
Источник: URL: http://vcpeindex.iese.us/?page_id=1523
Индекс привлекательности для венчурного капитала и его элементы для России
Источник: URL: http://vcpeindex.iese.us/?page_id=1523
Требования, которые должна удовлетворять лицензия открытого программного обеспечения
1. Свободное распространение.
Лицензия не должна ограничивать право любых физических/юридических лиц продавать или бесплатно распространять программный продукт как часть сборника (коллекции) программных продуктов полученных из разных источников. Лицензия не должна требовать отчислений (роялти) или других выплат за подобное распространение.
2. Исходный код.
Программа должна содержать исходный код и допускать распространение в виде исходного кода, так же как и скомпилированной формы. В тех случаях, в которых какая-либо форма продукта распространяется без исходного кода, должен существовать хорошо известный способ получения исходного кода за цену, не превышающую обоснованную стоимость воспроизведения, предпочтительно, бесплатное скачивание из Интернета. Исходный код должен быть предпочтительной формой, в которой любой программист смог бы модифицировать программу. Преднамеренное изменение исходного кода таким образом, чтобы он вводил в заблуждение, не допускается. Промежуточные формы исходного кода, такие как вывод препроцессора или транслятора не допускаются.
3. Производные продукты.
Лицензия должна допускать модификации и создание производных продуктов и должна допускать их распространение на таких же условиях как и оригинальный программный продукт.
4. Неприкосновенность авторского исходного кода.
Лицензия может ограничивать распространение исходного кода в модифицированной форме только,если лицензия допускает распространение "файлов-заплаток" (patch file) с исходным кодом в целях модификации исходного кода программы во время компиляции и создания программного продукта. Лицензия должна явным образом разрешать распространение программного продукта, созданного из модифицированного исходного кода. Лицензия может требовать, чтобы производные продукты имели наименование или номер версии отличные от оригинального программного продукта.