Изложенный принцип диффузионного усиления голограмм реализован в полимерной среде с использованием реакции фотовосстановления фенантренхинона в полиметилметакрилате [7]. Светочувствительность материала обусловлена способностью ФХ при облучении присоединяться к полимеру, превращаясь в 9-10-замещенное производное фенантрена (НФXR) по принципиальной схеме:
ФХ
где
Под действием света молекулы хинонов, и ФХ в их числе, способны восстанавливаться, отщепляя атом водорода от молекулы растворителя (полимера) и образуя семихиноновый радикал, что ведет к изменению показателя преломления системы. Этот механизм обеспечивает запись фазовых голограмм в реальном масштабе времени. Под действием излучения ФХ изменяет свою химическую структуру, а образовавшийся фотопродукт (семихиноновый радикал) присоединяется к молекуле ПММА и теряет свою подвижность.
Прозрачность и макроскопическая жесткость многих обычных полимеров, таких как ПММА, привели к предположению, что эти матрицы близки по своей природе к органическим и неорганическим стеклам при низких температурах (обычно при 77 К). Однако опыты, в которых малые молекулы диспергировали в твердых полимерных матрицах, показали, что при 300 К полимерные матрицы сохраняют значительно больший свободный объем, чем обычные органические стекла, что обеспечивает значительную молекулярную подвижность.
В процессе термического усиления деградация распределения ФХ приводит к выравниванию его концентрации в слое. Соответственно деградирует и задаваемое им распределение показателя преломления. При этом суммарная фазовая картина усиливается. Коэффициент усиления фазового изображения М определяется как отношение
Фиксирование голограммы производится облучением образца некогерентным излучением в полосе поглощения фенантренхиноном. При этом непрореагировавший фенантренхинон, равномерно распределенный по объему образца, преобразуется в несветочувствительный фотопродукт, а
Содержащие фенантренхинон полимерные среды позволяют записывать высокоэффективные голографические решетки. Толщина регистрирующих слоев при этом 1-3 мм, что приводит к высокой селективности записанных голограмм. Существует ряд применений голограмм, требующих наряду с высокой эффективностью низкой селективности. Для ее уменьшения необходимо использовать регистрирующие слои с меньшей толщиной. Для сохранения высокой дифракционной эффективности в более тонких слоях требуется повышение достижимой
Таким образом, фотохимический механизм записи состоит в присоединении молекул к полимерным цепям. Усиление (проявление) голограмм после записи достигается без дополнительной обработки за счет диффузионного размывания пространственного распределения ФХ, промодулированного наложением интерференционного поля, при том что дополнительное к нему распределение фотопродукта (связанных с полимером фенантреновых групп) почти не изменяется, обеспечивая тем самым чрезвычайно долговременную стабильность голограмм.
Таким образом, в формировании голограммы на постэкспозиционной стадии участвуют процесс присоединения радикалов к макромолекулам, а также три диффузионных процесса – диффузия молекул фенантренхинона, отвечающая за диффузионное усиление, диффузия фотоиндуцированных радикалов – регрессия скрытого изображения, и диффузия продуктов присоединения радикалов к низкомолекулярным веществам.
Как уже было сказано, решетка, связанная с непрореагировавшим фенантренхиноном, со временем «рассасывается» благодаря его диффузии. Из-за своих размеров макромолекулы практически неподвижны по сравнению с молекулами фенантренхинона, поэтому связанная с ними решетка значительно более стабильна, а в процессе диффузионной деградации противофазной ей «низкомолекулярной» решетки наблюдается усиление результирующей голограммы.
Далее приведены серии экспериментов по записи и термическому усилению голографических решеток в полимерном материале, содержащем ФХ, построение графиков и моделей с использованием описанных выше текстовых, табличных, математических и графических программ.
В ходе эксперимента на первом этапе были исследованы процессы термического усиления голографических решеток для двух серий образцов при различных условиях записи и периодах голограмм. Температура постэкспозиционного прогрева изменялась от 55°С до 85°С.
Рис.2 Зависимость амплитуды модуляции показателя преломления сразу после записи (
С увеличением экспозиции, значения
Постэкспозиционный прогрев образцов начинался через 30 минут после окончания процесса записи решеток при температурах 55°С – 85°С.
|