Механизм роста кристаллитов фуллерита в пленках Sn – C60 (стр. 3 из 3)
При повышении концентрации атомов цинка ширина запрещенной зоны увеличивается с скоростью dEg/dT = 2,4·10-2 эВ/ат.%. Для исследуемых пленок c концентрацией атомов цинка NZn = 4,7 ат.% ширина запрещенной зоны Eg = 1,146 эВ при Т=300 К (Рис.1).
 |  |
Рис.4. Спектральная зависимость коэффициента поглощения для пленок с концентрацией Nzn = 4.7 ат.%.
Рис.5. Температурная зависимость электропроводности для пленки с концентрацией атомов цинка Nzn=4.7 ат.%.
Т=300 К
Для определения энергий активации энергетических уровней созданных в запрещенной зоне собственными дефектами и идентификации типов дефектов были исследованы температурные зависимости электропроводности пленок в температурном интервале
∆Т = 80-400 К (Рис.2). Температурные зависимости регистрировались при повышении температуры образцов после предварительного охлаждения их до температуры жидкого азота. Установлено, что электропроводность пленок при изменении температуры изменяется в соответствии с известной зависимостью σ = σо exp (-∆Ea/kT) где ∆Ea - энергия активации соответствующего энергетического уровня в запрещенной зоне, определяющего изменение электропроводности в заданном температурном интервале.
Значения энергий активации определялись по наклону прямолинейных участков в построенных зависимостях ln σ = f (1000/T). Энергии активации для исследованных пленок с концентрацией атомов цинка NZn = 4,7 ат.% составляла ∆Ea1 = 74 мэВ в температурном интервале ∆Т = 200-400 К и ∆Ea2 = 15 мэВ в температурном интервале ∆Т = 100-150 К. Так как исследовались пленки с избытком атомов индия, то наиболее вероятными дефектами в пленках являются вакансии меди (VCu) и дефекты замещения типа атом индия на месте атома меди (InCu) и атом цинка на месте атома меди (ZnCu). В результате проведенных исследований с учетом литературных данных о существующих дефектах и их энергиях активации в полупроводниковом соединении CuInSe2 [1] можно предположить, что энергия активации ∆Ea1 соответствует дефектам ZnCu а энергия активации ∆Ea2 соответствует дефектам VCu.
Таким образом, в результате проведенных исследований установлено, что инкубационный период роста кристаллитов фуллерита зависит от толщины покрывающего слоя олова и составляет 12 и 22 месяца при dSn = 50 нм и dSn = 200 нм соответственно. Источником энергии образования кристаллитов являются внутренние механические напряжения, рост происходит по диффузионно-дислокационному механизму.
Литература
1. Мельник И.А. // Изв. вузов. Физика, 2004, №5, с. 19-26.
2. Melnik I. A. // New Energy Technologies, 2005, №1, p.58-69.
3. Мельник И.А. // Заявка на изобретение №2006136319, ФИПС, 2006.
4. Мельник И.А. // Изв. вузов. Физика, 2006, №5, с.32-38.
5. Еремин В.К., Строкан Н.Б., Тиснек Н.И. // Физика полупроводников, вып.11, 1974, с.2224-2227.
6. Панчелюга В. А, Шноль С.Э. // VI Международная крымская конференция "Космос и Биосфера". Тезисы докладов 26 сентября -1 октября 2005, Крым, Партенит.
7. Акимов А.Е., Тарасенко В.Я. // Изв. вузов. Физика., 1992, №3, с.5-12.55 с.