МИНИСТЕРСВО ОБРАЗОВАНИЯ РЕСПУБЛИКИ БЕЛАРУСЬ
БЕЛОРУССКИЙ НАЦИОНАЛЬНЫЙ ТЕХНИЧЕСКИЙ УНИВЕРСИТЕТ
Приборостроительный факультет
Кафедра «Микро- и нанотехника»
Курсовая работа по дисциплине «Физика полупроводников»
''ЭФФЕКТ ПОЛЯ. РАСЧЕТ ЭФФЕКТИВНОЙ ПОДВИЖНОСТИ НОСИТЕЛЕЙ ЗАРЯДА''
Выполнила: студентка ПСФ,
гр. 113416 Ющенко А.А.
Руководитель:
канд. физ. - мат. наук, доц. Сернов С.П.
Минск 2009
СОДЕРЖАНИЕ
2ЭФФЕКТ ПОЛЯ ПРИ РАЗЛИЧНЫХ ВЗАИМОДЕЙСТВИЯХ.. 2
2.1.2Экспериментальные результаты.. 2
3 РАСЧЕТ ЭФФЕКТИВНОЙ ПОДВИЖНОСТИ НОСИТЕЛЕЙ ЗАРЯДА2
Различные электронные процессы, которые несколько условно могут быть объединены названием поверхностных, в значительной мере связаны с наличием приповерхностного слоя пространственного заряда. Свойства этого слоя для данного вида образца полупроводника однозначно характеризуются поверхностным электростатическим потенциалом. Отсюда следует, что возможности исследования и управления величиной и знаком поверхностного электростатического потенциала. Существует множество методов изменения поверхностного электростатического потенциала, но в данной работе рассматривали метод воздействия на поверхностный электростатический потенциал полупроводника. Он заключается в непосредственном приложении внешнего электрического поля, нормального к его поверхности. Этот метод, получивший название «эффекта поля».
В зависимости от процесса релаксации разделяют существование двух принципиально различных механизмов экранировки объема полупроводника от проникновения в него внешнего поперечного поля. Первый из них заключается в захвате индуцированного в полупроводник заряда поверхностными состояниями. Второй механизм экранировки связан с изменением заряда в слое пространственного заряда, и следовательно, с изменением поверхностного электростатического потенциала.
Величину поверхностного потенциала можно изменять не только изменяя окружающую среду, но и создавая у поверхности полупроводника поперечное электрическое поле. Влияние внешнего электрического поля на электропроводность полупроводника получило название эффекта поля.
Существует большое число разнообразных экспериментальных приемов изучения эффекта поля, как в стационарном, так и в нестационарном режимах. Пример стационарного метода показан на рисунке 1.1.
Рисунок 1.1 – Схема наблюдения стационарного эффекта поля.
Пластинка полупроводника П служит одной из обкладок конденсатора, второй обкладкой которого является металлическая пластина М, отделенная от полупроводника тонким слоем изолятора И. К конденсатору прикладывается постоянное напряжение, величину и знак которого можно изменять. Концы пластинки полупроводника имеют низкоомные контакты, с помощью которых она включается мостовую схему (или какую-либо другую) для точного измерения малых измерений проводимости.
Ещё удобнее исследовать эффект поля, прикладывая к пластинам конденсатора переменное напряжение низкой частоты (десятки или сотни герц). Тогда, используя простые схемы и подавая на одну из пар пластин осциллографа сигнал, пропорциональный приложенному напряжению u, а на другую пару пластин – сигнал, пропорциональный ∆G , можно получить на экране всю кривую зависимости ∆G от u. Это позволяет легко определить по формуле 1 значение Ys при любом напряжении на конденсаторе, и в частности, при u = 0 (в «естественном» состоянии поверхности).
Ya = Ysmin + ∆Ys , (1.1)
∆Ysопределяется величиной (G – Gmin).
Такой метод имеет большое преимущество перед использованием различных газовых атмосфер, так как эти последние могут не только искривлять энергетические зоны, но и изменять концентрацию поверхностных уровней энергии вследствие адсорбции атомов газов.
Исследование эффекта поля позволяет получить ценную информацию о поверхностных состояниях (энергетических уровнях и их концентрациях). Эта возможность основана на следующем. Электроны и дырки под каждой единицей поверхности создают заряд
Q = Qv + Qs = e( Гp – Гn) + Qs (1.2)
где Qv – подвижный заряд в объеме приповерхностного слоя
Qs – связанный заряд на поверхностных уровнях
Гp и Гn – полные количества избыточных дырок и электронов, определяемые формулой (1.3)
Кроме того, имеется ещё заряд, создаваемый ионами в объеме полупроводника (заряженными донорами и акцепторами), и ионами, адсорбированными на внешней поверхности окисла. В отсутствие внешнего поля заряд ионов равен по величине и противоположен по знаку заряду Q.
Во многих случаях можно считать, что в эффекте поля ионный заряд не изменяется. Это справедливо, если доноры и акцепторы в объеме полупроводника полностью ионизированы. Адсорбированные же ионы обмениваются электронами с полупроводником очень медленно (часто за многие секунды и минуты), и за время измерения их заряд остается постоянным. Поэтому индуцированный заряд равен
δQ = δQv + δQs = e( δГp – δГn) + δQs (1.4)
Так как Гp и Гn – известные функции поверхностного потенциала Ys, а этот последний тоже определяется из эффекта поля, то величину δQv можно легко найти. С другой стороны, суммарный индуцированный заряд (отнесенный к единице площади) равен
δQ = Cu (1.5)
где С – емкость конденсатора на единицу площади, которая непосредственно определяется на опыте. Поэтому оказывается возможным определить δQs и найти, какая доля иногда выражают с помощью эффективной подвижности. Она, по определению, равна
(1.6)
где δG – изменение проводимости в эффекте поля.
Эта величина имеет особенно простой физический смысл, если искривление зон невелико и проводимость везде можно считать монополярной. Тогда получаем для дырочного полупроводника
,(1.7)а следовательно,
В этом случае μэф определяет, какая доля полного заряда поверхности находится в подвижном состоянии.
Исследуя зависимость Qsот Ys, можно определить энергетическое положение поверхностных уровней энергии и их концентрацию. Действительно, при изменении Ys поверхностные уровни, так же как и края зон у поверхности, перемещаются относительно уровня Ферми F. При прохождении какого-либо уровня Esчерез F зарядное состояние уровня изменяется. При наличии уровней только одного типа это проявляется на кривых зависимости Qsот Ys возникновением ступени.
Чтобы охарактеризовать энергетический спектр поверхностных состояний, отсчитываем Esпри неискривленных зонах (Ys=0) от положения уровня Ферми в собственном полупроводнике Fi, обозначая εs ≡ Es– Ei. Тогда
Es – F = εs – (F – Fi) – kTYs.
Для невырожденных (в объеме ) полупроводников получаем
Поэтому можно найти, что вероятность заполнения уровня Esпри данном Ys есть
Если рассматриваемые уровни акцепторные и их поверхностная концентрация равна ν, то заряд поверхности буде равен
Qs = –eνf(εs, Ys). (1.8)
Для донорных уровней получаем
Qv = eν(1 – f(εs, Ys)). (1.9)
Из формул (1.8) и (1.9) видно, что в обоих случаях на кривых зависимости Qsот Ys появляется ступень, а также точка перегиба. Последняя соответствует поверхностному потенциалу
Значит, определяя по данным эффекта поля Ys1, можно найти εs. Величина ступени равна eν.
В случае нескольких дискретных уровней энергии получилось бы не одна, а несколько точек перегиба.
Если имеется непрерывный энергетический спектр поверхностных состояний, то Q, получается суммированием выражений типа. Так, например, для акцепторных уровней получаем:
Где интегрирование производится по всей запрещенной зоне энергий. Здесь ν(εs) есть поверхностная плотность уровней, рассчитанная на единичный интервал энергии. В этом случае задача определения энергетического спектра поверхностных состояний ν(εs) по экспериментальной зависимости Qsот Ysстановится гораздо более сложной и требует либо дополнительных данных, либо дополнительных предположений.
Экспериментальное исследование зависимости Qsот Ys («кривых захвата») показывает, что кривые захвата, как правило, оказываются плавными и не обнаруживают ясно выраженных ступеней и точек перегиба. Пример таких кривых для германия приведен на рисунке 1.2