Смекни!
smekni.com

Конструирование ГИМС (стр. 3 из 3)

где К – коэффициент использования площади платы, 2 – 3;

SRi – площадь i-го резистивного элемента;

SCi – площадь i-го емкостного элемента;

Sаэ – площадь навесного элемента;

Sкп –площадь контактной площадки;

n – число контактных площадок;

n,m,k – число резисторов, пленочных конденсаторов, и навесных компонентов.

В результате расчета топологии тонкопленочной ГИС данной электрической схемы по формуле (1.33) получается:

S = 3*(15,57+18+2,8) = 109,11мм2

Плата выбирается та, площадь которой наиболее близка к рассчитанной величине S. В соответствии с результатами расчета S по таблице 1.6 мне подходят платы №10 и № 15, их площадь равна S=120мм2. Но при разработке топологического эскиза я столкнулся с проблемой нехватки места для расположения на плате всех элементов и последующего их соединения. Это связано с особенностями схемы: элементы соединяются таким образом, что невозможно обеспечить минимальную длину плёночных проводников, а значит, проводники будут занимать слишком большую площадь. Чтобы обеспечить расположение всех элементов я выбрал большую плату с площадью 192мм2. Это плата №8, имеющая размеры 12*16мм. Данные размеры позволили обеспечить оптимальное расположение элементов на плате.

Таблица 1.6 Типоразмеры плат ГИС (размеры, мм)

№ типоразмера Ширина Длина № типоразмера Ширина Длина № типоразмера Ширина Длина № типоразмера Ширина Длина
1 96 120 6 20 24 11 5 6 16 8 10
2 60 96 7 16 20 12 2,5 4 17 24 60
3 48 60 8 12 16 13 16 60 18 15 48
4 30 48 9 10 16 14 32 60 19 20 45
5 24 30 10 10 12 15 8 15 _ _ _

При проектировании ГИС надо выполнять основные конструктивные и технологические ограничения, приведённые в таблице 1.7. Так же следует выполнять общие правила и ограничения:

1. в одной микросхеме следует применять навесные компоненты с одинаковым диаметром и материалом гибких выводов;

2. навесные компоненты рекомендуется по возможности располагать рядами, параллельными сторонам платы;

3. не допускается установка навесных компонентов на плёночные конденсаторы, индуктивности;

4. не допускаются резкие изгибы и натяжения проволочных проводников.

Таблица 1.7 Конструктивно-технологические ограничения ГИС

Содержание ограничения Размер ограничения, мм
Минимально допустимый размер резистора, мм b l 0,1 0,3
Минимально допустимые расстояния между плёночными элементами, расположенными в одном слое 0,3
Максимально допустимые расстояния между плёночными элементами, расположенными в разных слоях 0,2
Перекрытия для совмещения плёночных элементов, расположенные в разных слоях 0,2
Минимальное расстояние от плёночных элементов до края платы 0,5
Минимальная ширина плёночных проводников 0,1
Минимально допустимое расстояние между краем плёночного резистора и краем его контактной площадки 0,2
Минимально допустимое расстояние: между краями диэлектрика и нижней обкладки конденсатора 0,1
Между краями верхней и нижней обкладок конденсатора 0,2
Между краем диэлектрика и соединением вывода конденсатора с другим плёночным элементом 0,3
Между краем диэлектрика и нижней обкладкой конденсатора в месте вывода верхней обкладки 0,2
От плёночного конденсатора до приклеиваемых навесных компонентов 0,5
Минимальная площадь перекрытия обкладок конденсатора 0,5*0,5
Минимальные расстояния от края навесного компонента, до: Края другого компонента 0,4
Края навесного пассивного компонента 0,6

Заключение

В ходе разработки курсового проекта сделано следующее:

1. выбран материал для подложки, резисторов и контактных площадок (выбор материалов был сделан в соответствии с приведёнными таблицами).

2. выбраны конструкции элементов и приведено описание методики их расчёта;

3. разработаны эскизы конструкций, приведены результаты расчётов топологических размеров элементов;

4. произведён расчёт площади платы, выбрана платы из таблицы типоразмеров плат ГИС.

В графической части приведены:

1. схема электрическая принципиальная (формат А3);

2. топологический чертёж (формат А1);

3. топологический чертёж резистивного слоя (формат А1);

В итоге курсового проекта была составлена документация, в заключение которой были перечислены источники используемой литературы.

Список использованных источников

Коледов Л.А. Конструирование и технология микросхем: учебник.
М.: Высшая школа,1984.-231с.

Николаев И.М. Интегральные микросхемы и основы их проектирования: учебник. М.: Радио и связь,1992.-424с.

Малышева И.А. Технология производства интегральных микросхем: учебник М.: Радио и связь,1991.-344с.